순수성은 불소수지가 반도체공업에서 사용된 후에 나온 용어이다. 반도체는 금속이온이나 이물을 싫어한다는 의미에서 순수성(순도성) 외에 clean이라는 말도 사용된다.

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반도체 제조공정에서는 다종다양의 약액을 사용한다. 여기에 접촉하는 제품(배관, tank, pump, wafer carrier 등)재료로 불소수지가 사용된다.

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사용 중 약액의 순도가 저하하면 제품(반도체)의 성능ㆍ품질이 떨어져 비율에 영향을 끼친다. 따라서 약액의 순도저하가 되지 않게 재료를 사용한다. 그 재료의 주된 성분으로 불소수지가 사용된다.

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*순도성의 의미는 다음과 같다.

a) 이물이 혼입되지 않은 것

b) 성형재료나 성형 시에 가역제나 항산화제 등이 배합ㆍ첨가되지 않은 것

c) 재료를 성형가공 중에 수지가 열분해해서 용출하게 되는 성형물이 포함되지 않은 것

d) 사용 중에 용출물이 없는 것

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*각각에 대해 조금 더 설명한다.

-이물의 혼입은 수지의 제조나 성형의 작업 중에 부유하는 분진이 주된 원인이다. 최근에는 반도체에 사용되는 부품의 성형은 클린룸 또는 클린룸에 가까운 환경에서 성형되고 있다.

-가역제나 항산화제에 대해서는 불소수지를 성형 시에는 이러한 것들을 일체 사용하지 않기 때문에 성형품 중에서 이러한 용출은 없다.

-열분해에 의한 용출물질에 대해서는 불소수지는 성형 시 온도에서 약 10-3wt%의 중량감소해 이것들은 기화물질이 되어 수지에서 분해되지만, 극소량수지에 부착하고 있는 경우가 있다. 이것은 약 200℃에서 annealing함으로써 제거되고, 순도성은 보존된다.

-PFA수지에서 미단기未端基를 불소화함에 따라 수지에서 용출물을 삭감한 제품이 나오기 때문에 더 높은 순도성을 보증할 수 있게 된다.

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위와 같이 순도성은 쉽게 얻을 수 있는 것이 아니다. 환경의 정비, 가공조건의 검토, 성형재료의 엄선 등이 있어야 고도의 결과를 얻을 수 있다.